Capitolo 4
Fabbricazione di SQUID
CAPITOLO 4
FABBRICAZIONE DI SQUID
Come si è visto nei capitoli precedenti, è possibile realizzare qubit e operazioni logiche
utilizzando SQUID.
Il sistema integrato che presentiamo è costituito da SQUID accoppiati tra loro: il doppio
SQUID andrà a costituire il qubit, mentre il dc-SQUID sarà usato come discriminatore
per leggere gli stati di flusso del qubit stesso. In questo capitolo viene descritto il
processo di fabbricazione che ho eseguito per realizzare questi dispositivi. Il materiale
usato è Niobio (Nb) per gli elettrodi e ossido di Alluminio (AlOx) per le barriere tunnel.
Alcuni dispositivi sono stati commissionati alla società HYPRES.Inc. su nostro disegno,
altri sono stati fabbricati interamente presso l’Istituto di Fotonica e Nanotecnologie,
C.N.R., dove è presente un laboratorio di microfabbricazione in una camera pulita di
classe 1000 (cioè in essa vi sono meno di 1000 particelle di polvere con diametro
superiore ad 1 µm in un piede cubo).
Nel laboratorio, sono presenti vari impianti per deposizione di film di vario materiale,
per la rimozione del film e per la diagnostica. E’ disponibile la litografia ottica ed anche
elettronica, grazie ad un e-beam microfabricator.
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Capitolo 4
Fabbricazione di SQUID
Figura 4.1 Camera pulita.
a)
b)
Figura 4.2 Impianti di litografia: a) elettronica b) ottica.
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Capitolo 4
Fabbricazione di SQUID
b)
a)
Figura 4.3 Impianti di deposizione: a) sputtering; b) evaporatore.
b)
a)
Figura 4.4 Strumenti per la diagnostica: a)SEM; b) microscopi ottici.
a)
b)
Figura 4.5 a) Cappe per processi chimci; b) Reactive ion etching .
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Capitolo 4
Fabbricazione di SQUID
Il processo di fabbricazione di un chip può essere riassunto dal seguente diagramma di
flusso (fig. 4.6).
3 volte
substrato
Trasferimento
del pattern sul
substrato
Deposizione
film sottili
Rimozione
materiale
LITOGRAFIA
Ispezione e misura
Taglio
dei chip
Saldatura
ad
ultrasuoni
test
Figura 4.6 Diagramma di flusso del precesso di fabbricazione.
Nel nostro caso, il substrato utilizzato è una fetta di silicio non ossidato di 2 pollici di
diametro; il trasferimento del disegno della struttura da realizzare (pattern) si basa su
litografia ottica. Il nostro processo di fabbricazione si compone di 3 fasi. La deposizione
di film avviene per sputtering o evaporazione termica; il pattern invece è definito per
lift-off.
I dispositivi sono realizzati su chip di dimensione 6.25 x 6.25mm.
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Capitolo 4
Giunzioni Josephson
4.1 Giunzioni Josephson
Passiamo ora ad affrontare le tematiche relative alla fabbricazione dei dispositivi che
andranno a realizzare il qubit, iniziando con l’esaminare i parametri costruttivi del
costituente fondamentale dei nostri dispositivi: la giunzione Josephson. Infatti, tutti
questi dispositivi sono costituiti da anelli interrotti da giunzioni Josephson. Come già
visto nel paragrafo 2.2 una giunzione Josephson è costituita da due elettrodi metallici
superconduttori separati da uno strato isolante.
Figura 4.7 Schema di una giunzione Josephson.
A seconda delle applicazioni, le giunzioni sono realizzate con materiali diversi e in varie
dimensioni che vanno da poche decine di nm a 1-10µm di lato. I parametri fondamentali,
quali la densità di corrente critica J0, il lato e la capacità specifica Csp , sono determinati
in fase costruttiva e influenzano il comportamento della giunzione stessa.
La densità di corrente critica viene stabilita variando la pressione di ossigeno usata in
fase di ossidazione del materiale che realizza la barriera tunnel. Nel nostro caso, il
materiale scelto è l’ Alluminio perchè aderisce molto bene sul Niobio (Nb) riempiendo
le vacanze lasciate da quest’ultimo in fase di crescita; l’ossidazione poi, produce uno
strato uniforme di ossido che rende la giunzione di buona qualità. Attualmente, presso il
nostro laboratorio, J 0 = 100 A / cm2 . La corrente critica I0 è data dal prodotto J 0 S in
cui S è l’area efficace della giunzione. Le proprietà di tunnel dipendono
esponenzialmente dallo spessore th di ossido.
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Capitolo 4
Giunzioni Josephson
ε ε
La capacità specifica (per unità di area) Csp = 0 r invece dipende linearmente dallo
th
spessore dell’ossido th e dalla sua costante dialettrica relativa εr. Nel nostro caso lo
spessore dell’ossido, circa 10nm, dà una capacità specifica di 50 fF/µm2 .
Giunzioni di 3 µm di lato hanno una capacità C= 0.4 pF (giunzioni Josephson) mentre
quelle con 0.1 µm di lato hanno una capacità C=0.5 fF (giunzioni mesoscopiche). Le
dimensioni della giunzione deterninano anche le energie caratteristiche.
Per fabbricare giunzione Josephson, a seconda delle dimensioni da realizzare, si
utilizzano due differenti processi tecnologici e due diversi tipi di elettrodi o di
Alluminio (Al) o Niobio (Nb).
Giunzioni in Al/AlOx/Al, con lato inferiore a 100nm, sono ottenute per litografia
elettronica e successiva “shadow mask evaporation”; invece le giunzione utizzate per
questo lavoro di tesi, hanno lato maggiore di 1µm e si realizzano per litografia ottica e
deposizione di film sottili di Nb/AlOx/Nb per sputtering. Con questa tecnica è possibile
produrre giunzioni robuste e di alta qualità, le cui caratteristiche (I0, C, R) non variano
nel tempo.
4.2 Realizzazione di giunzioni di Nb/AlOx/Nb
L’aspetto più delicato nella realizzazione del chip consiste nella fabbricazione delle
giunzioni perché si lavora al limite della risoluzione possibile con litografia ottica. La
giunzione viene fabbricata utilizzando tre passi fabbricativi (T.Imamura ,1991):
1. TRILAYER
Inizialmente si deposita su tutto il wafer, usando uno sputtering magnetron (fig. 4.3 a)),
un trilayer costituito da un primo strato di Nb dello spessore di 100nm che andrà a
realizzare l’elettrodo di base, poi uno strato sottilissimo di Al, circa 10nm, che viene
ossidato in atmosfera di ossigeno per 30minuti. Lo strato AlOx risultante è spesso solo
pochi Angstrom. Variando la pressione dell’ossigeno, si può cambiare la densità di
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Capitolo 4
Il chip
corrente critica J0. Si procede poi, con la deposizione dell’ultimo strato di Nb (80nm)
che realizzerà l’elettrodo superiore. Il risultato di tale operazione, eseguita in
successione, è mostrato in figura 4.8.
Nb
Al/AlOx
(barriera)
Figura 4.8 Deposizione del trilayer.
2. DEFINIZIONE DELLE GIUNZIONI
La barriera è estesa a tutto il wafer. Per avere una giunzione si deve creare una
strozzatura, ossia delimitare l’area della giunzione stessa. Questa operazione si realizza
ricoprendo il campione con un polimero sensibile alla radiazione ultravioletta (U.V.),
chiamato resist, sul quale, tramite una litografia ottica, è possibile trasferire il pattern
voluto da una maschera al substrato (fig.4.2 b)).
resist
Figura 4.9 Deinizione della giunzione Josephson.
Poi in un bagno di acetone (lift-off) si rimuove il resist e il materiale in eccesso; solo il
materiale direttamente depositato sul substrato rimane attaccato. Un buon lift-off e’
legato al profilo del resist che deve avere le pareti inclinate verso l’interno (undercut).
Per ottenere la pendenza giusta, la solubilità deve aumentare con la profondità del resist
e un resist ad inversione di profilo realizza questa necessità (D.L.Meir, 1991).
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Capitolo 4
Il chip
La foto SEM (Microscopio a Scansione Elettronica (fig.4.4 a)) mostra esempi di trilayer
ricoperto da resist ottico ad inversione di profilo (tronco di piramide) per diversi tempi
di esposizione alla radiazione U.V..
Figura 4.10 Foto SEM che mostra esempi di trilayer ricoperto da resist ottico ad inversione di profilo.
La base del resist defisce l’area della giunzione. Come evince dalla foto, la dimensione
effettiva della base è di circa 2.6µm, mentre il suo valore nominale era 5µm. L’area si è
ridotta del 50%, di conseguenza si deve alzare il tempo di esposizione per avere pareti
meno ripide e aumentare così l’area efficace.
Con la maschera di resist, si rimuove per etching la parte esposta dell’elettrodo
superiore e si deposita, per evaporazione termica, uno strato di ossido di Silicio (SiOx);
la giunzione risulta così isolata con un processo self-allineato (fig 4.3 b)).
a)
b)
SiOx
Figura 4.11 a) Rimozione per eching dell’elettrodo superiore (tranne nella zona dove è definita la
giunzione. b) Deposizione di ossido di Silicio per isolare la giunzione con un processo self-allineato.
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Capitolo 4
Il chip
Si toglie il resist eseguendo il lift-off, la giunzione rimane definita e isolata come
mostrato dalla figura 4.12.
a)
b)
Figura 4.12.Rimozione per lift-off del materiale in eccesso, la giunzione rimane definita e isolata. b) Foto
SEM della giunzione vista dall’alto.
3. CONTATTATURA
Con la deposizione dell’ultimo strato di Nb si realizzano le connessioni fra le giunzioni
e i fili esterni; uno sputter-each preliminare rimuove l’ossido formatosi, garantendo un
contatto superconduttore fra l’elettrodo superiore della giunzione e lo strato dei contatti.
contattatura Nb
Figura 4.13 Connessioni fra le giunzioni e i fili esterni.
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Capitolo 4
Il chip
4.3 Il chip
Il nostro sistema integrato mostrato in figura 4.14, si compone essenzialmente di:
•
qubit realizzato con un doppio SQUID
•
lettore basato su un dc-SQUID discriminatore o giunzione di lettura
•
bobine per accoppiare flusso dall’esterno e trasferirlo da qubit a lettore.
Figura 4.14 Foto al SEM del sistema integrato formato da un doppio SQUID qubit, letto da un dcSQUID isteretico o da un dc-SQUID amplificatore.
Tutti gli SQUID sono disegnati usando la configurazione gradiometrica mostrata in
figura 4.15: un singolo anello è sostituito da due anelli identici di induttanza L0 in
parallelo alla giunzione.
In questo modo, un campo uniforme come quello prodotto da campi magnetici esterni
produce correnti di schermo circolanti in direzione opposta in ciascun anello che si
cancellano nello SQUID. Quindi, diminuendo l’area effettiva del loop per segnali
uniformi, nel nostro caso di circa un fattore cento, si riduce conseguentemente
l’interazione con l’ambiente che introduce rumore aggiuntivo al sistema. Tutto ciò
funziona soltanto se gli anelli sono perfettemente simmetrici.
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Capitolo 4
Il chip
Figura 4.15 Rf-SQUID; a) Configurazione gradiometrica di un rf SQUID. b) Configurazione
gradiometrica di un doppio SQUID: il gradiometro del dc interno è ortogonale al gradiometro del
dispositivo.
Questa simmetria dipende fortemente dalle dimensioni del dispositivo: più piccole sono
le sue dimensioni fisiche, più difficile è controllare la sua geometria durante il processo
litografico. Utilizzando una sorgente U.V. il cui potere risolutivo (capacità di
distinguere due punti come separati) a 365 nm è di 0.7µm, il lato d interno dell’anello
non può essere inferiore alla decina di µm.
L’induttanza L dipende linearmente da d, dimensione interna dell’anello, e
logaritmicamente dal rapporto x tra la larghezza della striscia del filo e d secondo la
relazione:
µ d
x + 0.1
L = 2 0 2 + 1.15ln
π
x
dove µ è la permeabilità del vuoto. Nel limite di x 1 la formula si riduce a
L = 1.25µ0 d (M.B.Ketchen, 1987).
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Capitolo 4
Il chip
Qubit ↔ Doppio SQUID
Si è visto, nel paragrafo 3.1, come un doppio SQUID rappresenti il sistema
macroscopico con cui si vuole realizzare il qubit. Se il sistema è a contatto con
l’ambiente esterno, è soggetto a dissipazione e fluttazioni casuali, quindi la coerenza
viene persa progressivamente. Nella progettazione, si è cercato di ridurre il più possibile
l’accoppiamento con qualsiasi rumore ambientale per non compromettere lo stato del
qubit nelle sua evoluzione coerente. Nel chip, la giunzione dell’ rf-SQUID è sostituita
con un dc-SQUID per poter variare la corrente critica del dispositivo e aver un
aggiustamento fine dell'altezza della barriera. In letturatura non esistono altri qubit con
questa caratteristica: tutti gli altri necessitano di impulsi a µ-onde per effettuare
manipolazioni (Y.Yu, 2002 - D.Vion, 2002). Il doppio-SQUID, così ottenuto, si
comporta come un rf-SQUID soltanto se l’ induttanza l del dc interno, di 10pH, è molto
bassa rispetto all’induttanza L dell’anello grande ( l << L ). Per questo motivo il lato
interno dell’anello grande viene scelto di 100 µ m in modo che il doppio SQUID abbia
un’induttanza di 85pH. Le giunzioni del dc interno hanno lato pari a 3µm per dare una
corrente critica massima di circa 20µA. Con questi valori si può modificare l’induttanza
ridotta βL in un intervallo di valori compresi tra 1 e 5.
Un altro vincolo stringente è la calibrazione del flusso di polarizzazione Φx sul doppio
SQUID: allontanandosi di pochi milliΦ0 dalla condizione di doppia buca simmetrica
( Φx =
Φ0
), il potenziale mostra una notevole asimmetria come evince dalla
2
simulazione in fig.4.16 calcolata per uno scostamento di qualche mΦ0.
10
UHφL
8
6
4
2
0
-1
-0.5
0
φ
0.5
1
φ
Figura 4.16 Simulazione del potenziale al variare di qualche mΦ0 nel flusso Φx di sbilanciamento.
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Capitolo 4
Il chip
Quindi è necessario controllare Φ x con grande accuratezza. Questa operazione è resa più
facile dalla grande dimensione del dispositivo che permette di accoppiare due bobine
superconduttrici aventi mutua induttanza con il qubit variabile da 100fH a 10pH. Le
bobine sono posizionate simmetricamente lungo l’asse del dispositivo e il loro numero
permette un aggiustamento fine del flusso esterno.
Figura 4.17 Foto SEM di un doppio SQUID; il corrispondente schema 3-dim ( con una sola bobina di
accoppiamento, è mostrato a destra.
Per evitare che il flusso concatenato con il doppio SQUID si accoppi al dc interno e
viceversa, l’anello principale del doppio SQUID è un gradiometro ortogonali al
gradiometro del dc interno come mostrato in figura 4.15.
Lettore ↔ dc-SQUID isteretico
Questo dispositivo è fondamentale per la lettura del qubit. Il dc-SQUID è un
gradiometro planare avente lato interno d di 10 µm. Le due giunzioni che interrompono
l’anello sono quadrate e hanno il lato di 3µm. La capacità è di ciascuna giunzione è pari
0.45pF e la corrente critica è di circa 10µA. La bobina, che accoppia flusso magnetico
dall’esterno, modulando così corrente critica, circonda uno dei due anelli quadrati che
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Capitolo 4
Il chip
realizzano il gradiometro bilanciato, poggiandosi sulla parte superiore del corpo del dcSQUID (fig.4.18). Questa bobina ha mutua induzione di circa 5 pH mentre l'induttanza
del dispositivo è intorno ai 10 pH. Il dc-SQUID isteretico è accoppiato magneticamente
all’ doppio SQUID tramite un trasformatore di flusso superconduttore. Il dispositivo,
acceso con un impulso di corrente più basso della sua corrente critica, verrà utilizzato
come discriminatore per leggere in quale tato di flusso si trova il doppio SQUID qubit
(ved.3.3.).
Figura 4.18 Foto SEM di un dc-SQUID lettore. La geometria del dispositivo è illustrata nel disegno a
destra.
Sono stati inotre realizzati dei dc-SQUID in cui la bobina che accoppia flusso
magnetico dall’esterno è stata sostituita con la bobina a spirale visibile in figura 4.19.
La bobina circonda entrambi gli anelli
aumentando così la mutua induzione da
5pH a 180pH. Infatti, in questo dc più
accoppiato, sono necessari circa 11µA per
avere un quanto di flusso contro i 330µA
del dispositivo precedente.
Figura 4.19 Foto SEM di un dc-SQUID in cui la bobina tradizionale è stata sostituita con una bobina a
spirale per avere un maggior accoppiamento.
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Capitolo 4
Il chip
Trasformatore di flusso
Il qubit e il suo lettore sono accoppiati attraverso un trasformatore di flusso
superconduttore di induttanza esterna 143pH. Il fattore di accoppiamento krf − dc tra i
due dispositivi è stato scelto abbastanza piccolo per avere misure debolmente invasive.
Così, una variazione di un quanto di flusso Φ0 intrappolato nel doppio SQUID provoca
nel dc di lettura un segnale di 0.01Φ 0. Negli ultimi disegni è stato progettato un
trasformatore
superconduttore
in
cui
l’accoppiamento
può
essere
cambiato
(accoppiamento o assenza di accoppiamento) grazie a un dc-SQUID, usato come
l'interruttore, in parallelo con i due collegamenti induttivi (fig.4.20).
Figura 4.20 Trasformatore variabile.
La caratterizzazione di questo dispositivo ha portato alla realizzazione di un articolo
pubblicato su Applied Physics Letters 86, 152504 (2005) e allegato in appendice A.
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Capitolo 4
Il chip
Qubit + Lettore ↔ Doppio SQUID con giunzione di
lettura
Modificando il disegno originale del doppio SQUID qubit si ottiene il dispositivo in
figura 4.21 in cui il sistema di lettura è ottenuto intrrompendo l’anello principale del
doppio SQUID con una giunzione avente I0 J 2 I0
Figura 4.21 Doppio SQUID con giunzione di lettura.
I parametri tipici di un qubit a stati di flusso con lettura diretta sono gli stessi del doppio
SQUID, ma la giunzione grande ha un’area di 100µm2 e corrente critica di circa 100µA.
Nel dispositivo di figura 4.22, gli stati del qubit (al centro) possono essere letti
indifferentemente sia dalla giunzione di lettura che dai due dc-SQUID isteretici
posizionati a destra e sinistra del qubit. Si può così effettuare una comparazione tra i due
sistemi di lettura.
Figura 4.22 Foto SEM del dispositivo 15: qubit letto sia dalla giunzione che dai due dc-SQUID isteretici.
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Capitolo4
Dispositivi modulari
4.4 Dispositivi modulari
Per realizzare computazione quantistica sono necessari un numero elevato di qubit che
possano trovarsi in una sovrapposizione coerente di due stati distinti.
Allo scopo di facilitare l’integrazione, sono stati sviluppati disegni di dispositivi a
struttura modulare. Il modulo base è costituito da un doppio SQUID con lettura diretta
accoppiato ad un trasformatore di flusso variabile. Combinando insieme due moduli si
ottiene il dispositivo 18 mostrato in figura 4.22.
Figura 4.23 Foto SEM di due qubit accoppiati attraverso un trasformatore di flusso variabile.
In questo dispositivo due qubit possono essere accoppiati in modo controllato per
realizzare l’operazione logica C-NOT o altre operazioni più complesse. Unendo insieme
quattro moduli, collegati tra loro attraverso un bus, si può realizzare un registro
quantistico per immagazzinare informazione (fig.4.23).
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Capitolo4
Dispositivi modulari
Figura 4.23 Foto SEM di quattro qubit accoppiati tra loro attraverso un bus.
Tutti questi dispositivi sono attualmente in fase di caratterizzazione.
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