• • Dispositivi bipolari I dispositivi bipolari sono dispositivi a semiconduttore in cui sia gli elettroni che le lacune prendono parte al processo di conduzione. Al contrario i dispositivi unipolari sono quelli in cui un solo tipo di portatore partecipa, prevalentemente, al processo di conduzione Il transistor bipolare (Bipolar Junction Transistor: BJT) fu inventato e brevettato nel 1947 dai Bell Laboratories Lab. Micro-OptoElettronica • • Transistor bipolare a giunzione: BJT Il transistor bipolare è costituito da due giunzioni p-n accoppiate (back to back). In figura è mostrata in sezione una tipica struttura p+-n-p. La regione più drogata (p+) è detta emettitore, la regione centrale (n) base e la terza (p) collettore Lab. Micro-OptoElettronica Struttura e Modello di un transistor bipolare n-p-n • • Struttura reale, semplificata, di un moderno transistor BJT di tipo n-p-n, realizzato in tecnologia planare Simbolo circuitale del transistor BJT Lab. Micro-OptoElettronica Struttura e Modello di un transistor bipolare p-n-p • • Struttura reale, semplificata, di un moderno transistor BJT di tipo p-n-p, realizzato in tecnologia planare Simbolo circuitale del transistor BJT Lab. Micro-OptoElettronica Modi di funzionamento VBE Attivo Saturazione VBC Interdizione Invertito • in alto diagramma a bande • in basso densità elettronica Lab. Micro-OptoElettronica Modi di funzionamento a) Polarizzazione nulla: equilibrio termico b) Entrambe le giunzioni pol. inversamente (interdizione OFF ) c) Entrambe le giunzioni pol. direttamente (saturazione ON ) d) Prima giunzione pol. direttamente , seconda giunzione pol. inversamente (modo attivo) Lab. Micro-OptoElettronica Modo attivo (p+-n-p) Lab. Micro-OptoElettronica Modo attivo (p+-n-p) • • • • Lacune entrano da E→B in gran numero (pol. diretta E-B) Pochi elettroni da B→E (effetto diverso livello drogaggio) Corrente di emettitore → base Lacune iniettate da E nella corta regione di base, possono diffondere fino al collettore • Raggiunta la zona di svuotamento sono estratte dal campo elettrico (pol. inversa B-C): corrente di collettore Lab. Micro-OptoElettronica Modo attivo (p+-n-p): correnti Lab. Micro-OptoElettronica Modo attivo (p+-n-p) • Efficienza di emettitore γ: rapporto tra I Ep I Ep γ= = la corrente di lacune iniettate e la I E I En + I Ep corrente totale di emettitore • Fattore di trasporto αT in base: rapporto tra la I Cp corrente di lacune che diffondono nel collettore αT = e quella delle lacune iniettate nella base I Ep dall’emettitore • αT tende ad uno al diminuire della lunghezza di base • Complessivamente si definisce guadagno del transistor I Cp I Cp I Ep I C I Cp + I Cn 1 α= = ≅ = = αT = αT γ I E I En + I Ep I En + I Ep I Ep 1 + ( I En I Ep ) I En + I Ep IC IC IC I E α β= = = = I B I E − IC 1 − IC I E 1 − α Lab. Micro-OptoElettronica se α → 1 β →∞ Modo attivo (p+-n-p): teoria BJT ideale • Componenti della corrente totale di emettitore Lab. Micro-OptoElettronica Modo attivo (p+-n-p): teoria BJT ideale • Componenti della corrente totale di emettitore • Componenti della corrente totale di collettore Lab. Micro-OptoElettronica Modo attivo (p+-n-p): teoria BJT ideale • Per risolvere le eq. precedenti è necessario conoscere la distribuzione dei minoritari, utilizzando l’eq. di continuità con le ipotesi (nella regione di base): • Bassi livelli di iniezione • Campo elettrico per minoritari trascurabile • Nessuna componente di generazione • Stato stazionario • Senza ricombinazione dei minoritari (τ=∞) la soluzione è δ pn ( x′ ) = A1 x + A2 Lab. Micro-OptoElettronica Modo attivo (p+-n-p): teoria BJT ideale • Calcoliamo A1, A2 dalle condizioni al contorno per x=0 e x=W quindi • Si ricava quindi una dipendenza lineare che è determinata dall’assenza di fenomeni di ricombinazione: tutte le lacune iniettate raggiungono la giunzione B-C. Lab. Micro-OptoElettronica Modo attivo (p+-n-p): teoria BJT ideale • Analogamente per la diffusione degli elettroni In questo caso non si può trascurare la ricombinazione, quindi la soluzione sarà del tipo • In definitiva si ricava Lab. Micro-OptoElettronica Modo attivo (p+-n-p): teoria BJT ideale • Riportando in grafico i risultati ottenuti Lab. Micro-OptoElettronica Modo attivo (p+-n-p): teoria BJT ideale • Per ricavare IE dobbiamo determinare IEp e IEn: • E’ stata ignorata la ricombinazione di elettroni nella regione di base e l’iniezione di buche dal collettore. Si è invece tenuto conto della ricombinazione di lacune in base, anche se non nelle regioni di svuotamento. Lab. Micro-OptoElettronica Modo attivo (p+-n-p): teoria BJT ideale • La corrente IC di collettore si ricava in modo analogo (buche provenienti dalla base + elettroni provenienti dal collettore) analogamente • Nel modo attivo (VCB<0), quindi IC diventa • IC ~ IE a parte piccoli termini (ricombinazione +iniez. minor.) Lab. Micro-OptoElettronica Modo attivo (p+-n-p): teoria BJT ideale • La corrente IB si ricava dalla legge di Kirchoff(considerando il transistor come un nodo) ma IC ~ IE quindi nel dettaglio • L’unico termine di cui teniamo conto è IB2 , che si ricava dalla carica necessaria per la corrente di ricombinazione (carica totale diviso il tempo di vita dei portatori): Lab. Micro-OptoElettronica Modo attivo (p+-n-p): teoria BJT ideale • Dalle eq. precedenti Iniezione elettroni B→E Iniezione elettroni C→B Da cui: Questa espressione tiene conto della ricombinazione in base, della corrente di saturazione inversa di C-B e della corrente di elettroni iniettati in E • Se si tiene conto solo della ricombinazione IB2 Lab. Micro-OptoElettronica Caratteristiche di uscita: base comune • BJT p-n-p • IC=cost≈IE quindi α=1 • IC=0 con una piccola pol. diretta ~1 V (in Si) alla giunzione B-C e si entra nel modo di saturazione Lab. Micro-OptoElettronica Evoluzione strutture BJT Lab. Micro-OptoElettronica Evoluzione strutture BJT anni 90 Lab. Micro-OptoElettronica Base con drogaggio graduato • Distribuzione impurezze in base non uniforme • Diffusione elettroni verso collettore • Campo elettrico nella regione neutra di base • Il campo “aiuta” il moto delle lacune iniettate da E in C • Riduzione tempo di transito in base e del fattore di trasporto αT Lab. Micro-OptoElettronica Non-idealità: Resistenza di base • Nel punto A VEA=VEB-½IB(RAD+RDB) • Nel punto D VED=VEB-½IBRDB • Quindi se RAD è grande allora VED > VEA • Al bordo dell’emettitore in D l’iniezione di lacune sarà più intensa • La maggior parte della corrente di emettitore si addenserà sui bordi e molto meno nella zona centrale “edge crowding” • Si verificano effetti indesiderati di alti livelli di iniezione • Soluzione: aumentare il perimetro dell’emettitore Lab. Micro-OptoElettronica Non-idealità: Resistenza di base Strutture interdigitate Lab. Micro-OptoElettronica Configurazione a emettitore comune • Più spesso si adotta la configurazione a emettitore comune nella config. ad emettitore comune da cui I C (1 − α 0 ) = α 0 I B + I CB 0 Lab. Micro-OptoElettronica I C = α 0 I E + I CB 0 = α 0 ( I B + I C ) + I CB 0 α0 I CB 0 ossia I C = IB + 1 − α0 1 − α0 Configurazione a emettitore comune • Indichiamo con β0 l’amplificazione di corrente a emettitore comune • β0 = (variazione di IC)/(variazione di IB) ∆I C α0 β0 = = ∆I B 1 − α 0 ponendo I CE 0 I CB 0 = 1 − α0 • Che corrisponde alla corrente di dispersione tra collettore ed emettitore per IB=0 I C = β 0 I B + I CE 0 • poiché α0 è prossimo ad 1, β0 è un numero molto grande: • una piccola corrente di base può produrre una corrente di collettore molto più intensa Lab. Micro-OptoElettronica Amplificazione con un BJT - 1 (Colinge) Lab. Micro-OptoElettronica Amplificazione con un BJT - 2 IC Lab. Micro-OptoElettronica IB Amplificazione con un BJT - 3 esempio Lab. Micro-OptoElettronica Modulazione larghezza di base: Effetto Early • Fissata IB, la corrente di collettore IC dovrebbe rimanere costante in funzione di VEC, per VEC > 0 • La deviazione dal comportamento ideale è dovuto alla riduzione dell’ampiezza della regione neutra di base, che determina un incremento il gradiente di concentrazione e quindi di IC. Lab. Micro-OptoElettronica Tensione di rottura a base aperta IE=IC=I, quindi M= 1 1 − (V BVCB 0 ) η β0 = M (α 0 I + I CB 0 ) = I ∆I C α0 = ∆I B 1 − α 0 ponendo I CE 0 = MI CB 0 da cui I = 1 − α0M I CB 0 1 − α0 per α 0 M = 1 la corrente è limitata solo dal circuito esterno, quindi BVCE 0 = BVCB 0 (1 − α 0 ) 1η per Si ; BVCB 0 ( β 0 ) −1 η 2 < η < 6 e β 0 è piuttosto grande quindi BVCE 0 < BVCB 0 Lab. Micro-OptoElettronica Generazione-ricombinazione Alti livelli di iniezione Lab. Micro-OptoElettronica Modello di Ebers-Moll qVCB qVEB kT kT IE = IF0 e − 1 − α R I R 0 e − 1 qVCB qVEB kT kT IC = α F I F 0 e − 1 − I R 0 e − 1 α Lab. Micro-OptoElettronica α Frequenza di taglio • Il più importante limite alla risposta in frequenza di un BJT è il tempo di transito dei minoritari in base distanza percorsa dal portatore dx = v ( x ) dt la corrente risultante I p = q v ( x ) p ( x ) tempo di transito τ B = ∫ W 0 W q p ( x) A dx =∫ dx v ( x) 0 Ip 2 W per una distribuzione lineare τ B = 2Dp OTTIMIZZAZIONE τB • Rendere la base più sottile possibile • Elevata costante di diffusione (transistor n-p-n) Lab. Micro-OptoElettronica Commutazione (BJT in elettronica digitale) Lab. Micro-OptoElettronica Tempo di Commutazione I Bτ p tS ≡ t3 − t2 ; τ p ln QS τ p = tempo di vita minoritari in base QS = carica immagazzinata in base Lab. Micro-OptoElettronica